Vers un compromis entre effet de charge et endommagement du matériau lors de la gravure plasma des semiconducteurs III-V // Reducing damage and loading in high aspect ratio III-V etching
Catalyseurs de cobalt à ligands macrocyclique pour la réduction électrocatalytique des protons et du CO2. // Cobalt catalysts with macrocyclic ligands for the electrocatalytic reduction of protons and CO₂
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