Vos missions en quelques mots Sujet de thèse : Le CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes recherche un candidat hautement motivé pour un poste de doctorat entièrement financé (36 mois) axé sur le dépôt de couches minces pour des applications photoniques. Ce poste s'inscrit dans le cadre du projet « Silicon carbide photonic integrated circuit (SiCPIC) », un prestigieux réseau doctoral européen financé par le programme de recherche et d'innovation Horizon Europe de l'Union européenne dans le cadre de l'action Marie Skłodowska-Curie (MSCA), convention de subvention n° 101227010. • Collaboration internationale : le doctorant rejoindra une équipe internationale de 15 doctorants issus de cinq pays européens, en partenariat avec 5 universités et une entreprise. • Thème de recherche : les 15 projets de doctorat s'inscrivent dans le thème du projet « Dispositifs en carbure de silicium sur isolant (SiCOI) et intégration pour des applications dans les télécommunications optiques classiques et quantiques et la détection optique ». Ce projet de doctorat se déroulera au CNRS-Grenoble INP-Université Grenoble Alpes (France). La thèse de doctorat a pour objectif de développer et comprendre le procédé de dépôt d’ultra-fins films minces de SiC amorphe par HWCVD (Hot Wire Chemical Vapor Deposition). Une approche couplée, associant expérimentations et simulations numériques multiphysiques, sera mise en œuvre. Une étude approfondie des relations entre les conditions de dépôt (températures du filament et du substrat, pression, composition de la phase gazeuse précurseur), la structure chimique des films et les propriétés optiques résultantes sera menée. Les matériaux élaborés seront comparé à ceux obtenus par PVD (pulvérisation cathodique magnétron). La personne recrutée sera formée à l’ingénierie des procédés, à la planification d’expériences, à la simulation numérique, ainsi qu’à la caractérisation des couches minces par des méthodes structurales, chimiques et physiques (DRX, Raman, IRTF, SIMS, XPS, ellipsométrie). Les résultats attendus sont : - Validation et optimisation d’une nouvelle technologie HWCVD. - Obtention de films minces de SiC amorphe (a-SiC) à hautes performances optiques (matériau test en petites dimensions, inférieur à 2 pouces), destinés à être utilisés dans d’autres lots de travail (WPs). - Compréhension approfondie des relations entre le procédé de dépôt, la physico-chimie des films et leurs propriétés optiques. Contexte : Le SIMaP (Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés – UMR 5266), laboratoire mixte CNRS/Grenoble INP/Université Grenoble Alpes, est un pôle d’excellence en science des matériaux et procédés innovants. Il couvre des domaines variés, de la métallurgie aux nanomatériaux, en passant par les matériaux pour l’énergie, et dispose d’équipements de pointe pour la recherche. Intégré dans un réseau actif de collaborations industrielles et académiques, le SIMaP offre un cadre idéal pour des travaux Voir plus sur le site emploi.cnrs.fr Profil recherché Contraintes et risques : Niveau d'études minimum requis Niveau Niveau 7 Master/diplômes équivalents Spécialisation Formations générales Langues Français Seuil
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