L'ingénieur d'étude (H/F) en élaboration de matériaux en couches minces participera au développement et à la caractérisation des procédés de gravure sèche.
Il/elle aura également à charge la gestion des équipements dédiés à la gravure sèche, dont il/elle aura la responsabilité (formation, maintenance, suivi des procédés et calibration).
Activités
Prendre en main des équipements de gravure plasma de la ressource avec une priorité sur les machines de gravures ioniques réactives à couplage capacitif (RIE CCP) en chimie fluorée et gravures ioniques réactives à couplage inductif (RIE ICP) en chimie chlorée.
- Assurer le développement de procédés de pointe en gravure plasma pour les besoins du laboratoire et des demandeurs.
- Mettre en œuvre des moyens de caractérisation adaptés au développement de procédés (Microscopie Electronique à Balayage, microscopie optique, profilométrie...).
- Assurer la maintenance de 1er niveau et les relations avec les équipementiers des équipements sous sa responsabilité et contribuer au bon fonctionnement de la ressource gravure sèche.
-Effectuer des opérations courantes d'entretien et de maintenance des équipements (nettoyage des réacteurs de gravure)
- Assurer la formation et l'aide aux utilisateurs.
- Appliquer et faire appliquer les règles d'hygiène et de sécurité.
- Veiller à l'alimentation des outils web (cahier numérique, interface de réservation) et bases de données de suivi des équipements sous sa responsabilité.
- Assurer une veille technologique (notamment sur le suivi des évolutions techniques et scientifiques en gravure sèche).
- Participer à des projets de recherche en interaction avec les chercheurs ou les collaborateurs extérieurs au laboratoire.
Compétences
Savoirs :
- Connaissances générales en sciences des matériaux.
- Connaissances générales sur les procédés de micro et nano fabrication (lithographies, gravures, caractérisations)
- Connaissances des techniques de mise en forme et de caractérisation des matériaux et des surfaces.
- Connaissances des techniques du vide.
- Expérience du travail en salle blanche appréciée.
- Anglais : Compréhension écrite et orale : A2. Expression écrite et orale : A2.
Savoir-faire :
- Connaître des techniques d'élaboration et/ou de caractérisation des matériaux.
- Maitriser des outils bureautiques courants (Word, Excel, PowerPoint).
- Savoir appliquer les règles d'hygiène et de sécurité.
- Etre en mesure de participer aux maintenances et réparations d'équipements.
- Rédiger des rapports techniques et comptes rendus d'expériences.
Savoir-être :
- Capacité à travailler en équipe.
- Sens du collectif et du service aux utilisateurs.
- Rigueur et fiabilité dans l'exécution des tâches.
- Réactivité, dynamisme et disponibilité.
- Capacité d'adaptation.
- Sens de l'organisation.
Des formations seront possibles pour l'adaptation au poste.
Contexte de travail
Le C2N, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies est une unité mixte de recherche du CNRS, de l'Université Paris Saclay et de l'Université Paris Cité. Le laboratoire est constitué d'environ 400 personnes et est situé, sur le plateau de Saclay à Palaiseau.
Les thématiques de recherche du C2N sont la photonique, la nanoélectronique, les microsystèmes, la nanobiofluidique et les matériaux.
L'Ingénieur d'Etude (H/F) sera affecté(e) dans la Plateforme d'Innovation en Micro Et NanoTechnologies (PIMENT) du C2N, constituée d'une équipe technique de 25 Ingénieurs et Techniciens (H/F).
La plateforme PIMENT a pour mission principale le développement, l'exploitation et l'assistance aux besoins de réalisations en micro- nano- fabrication des objets d'études de l'unité et plus largement de la communauté scientifique et industrielle, via notamment le réseau national des Grandes Centrales de Technologie RENATECH.
Elle est organisée en 10 ressources technologiques regroupant les techniques de lithographies optiques de nanolithographie et de lithographie alternative, les dépôts métalliques et dépôts diélectriques et traitements thermiques, la gravure sèche et la gravure chimique et l'électrochimie, la caractérisation par microscopie électronique et microanalyse, la caractérisation physico-chimique et le backend.
L'Ingénieur d'étude (H/F) viendra renforcer la ressource gravure sèche et évoluera sous la responsabilité fonctionnelle du/de la coordinateur-trice de la ressource et sous la responsabilité hiérarchique de la direction technique de la plateforme. Au-delà de son activité au sein de la plateforme, il/elle prendra part à des projets transversaux de l'Unité dans son cœur de métier.
Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.
Le C2N, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies est une unité mixte de recherche du CNRS, de l'Université Paris Saclay et de l'Université Paris Cité. Le laboratoire est constitué d'environ 400 personnes et est situé, sur le plateau de Saclay à Palaiseau.
Les thématiques de recherche du C2N sont la photonique, la nanoélectronique, les microsystèmes, la nanobiofluidique et les matériaux.
L'Ingénieur d'Etude (H/F) sera affecté(e) dans la Plateforme d'Innovation en Micro Et NanoTechnologies (PIMENT) du C2N, constituée d'une équipe technique de 25 Ingénieurs et Techniciens (H/F).
La plateforme PIMENT a pour mission principale le développement, l'exploitation et l'assistance aux besoins de réalisations en micro- nano- fabrication des objets d'études de l'unité et plus largement de la communauté scientifique et industrielle, via notamment le réseau national des Grandes Centrales de Technologie RENATECH.
Elle est organisée en 10 ressources technologiques regroupant les techniques de lithographies optiques de nanolithographie et de lithographie alternative, les dépôts métalliques et dépôts diélectriques et traitements thermiques, la gravure sèche et la gravure chimique et l'électrochimie, la caractérisation par microscopie électronique et microanalyse, la caractérisation physico-chimique et le backend.
L'Ingénieur d'étude (H/F) viendra renforcer la ressource gravure sèche et évoluera sous la responsabilité fonctionnelle du/de la coordinateur-trice de la ressource et sous la responsabilité hiérarchique de la direction technique de la plateforme. Au-delà de son activité au sein de la plateforme, il/elle prendra part à des projets transversaux de l'Unité dans son cœur de métier.
Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.
Contraintes et risques
Conditions liées au travail en salle blanche à environnement contrôlé avec port de combinaison et protections individuelles, au fonctionnement et à la maintenance d'appareillages dans le respect des règles de sécurité. Manipulation de produits dangereux et toxiques. Infrastructure de recherche ouverte à la communauté scientifique et partenaires industriels. Grand nombre d'utilisateurs nécessitant suivis et formations.
Conditions liées au travail en salle blanche à environnement contrôlé avec port de combinaison et protections individuelles, au fonctionnement et à la maintenance d'appareillages dans le respect des règles de sécurité. Manipulation de produits dangereux et toxiques. Infrastructure de recherche ouverte à la communauté scientifique et partenaires industriels. Grand nombre d'utilisateurs nécessitant suivis et formations.
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