Au sein du LETI, nous sommes une équipe pluridisciplinaire d’une quinzaine de personnes spécialisées dans les solutions numériques au service de la lithographie optique, ainsi que sur la métrologie et les logiciels associés. Notre méthode de travail collaborative et agile nous permet de partager nos connaissances et savoir-faire afin de les développer puis de les valoriser dans des innovations technologiques rapidement transférables à nos partenaires.
Nous rejoindre, pour quoi faire ?
Nous vous invitons à participer au défi de la transformation numérique que nous avons lancé : augmenter les performances de nos semi-conducteurs tout en réduisant leur consommation d’énergie.
La finesse de résolution et la complexité des structures à réaliser nous impose d’innover dans l’optimisation des dessins des masques de photolithographie par des techniques OPC (Optical Proximity Correction).
Vos principales missions seront les suivantes :
* Création par CAO de dessins à embarquer sur des masques lithographie d’étude
* Développement et validation de solutions numériques OPC
* Développement de plans d’expérience et mise en œuvre en lien avec la salle-blanche
* Acquisition et traitement des données expérimentales de microscopie électronique (SEM)
* Communication des résultats en interne et auprès de nos partenaires industriels
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