Ingénieur de recherche en lithographie sur la plateforme centrale de micro-nanofabrication - cm[...]

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Ingénieur de recherche en lithographie sur la plateforme Centrale de Micro-NanoFabrication - CMNF H/F


Date Limite Candidature : mardi 5 août 2025 23:59:00 heure de Paris

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Informations générales

Intitulé de l'offre : Ingénieur de recherche en lithographie sur la plateforme Centrale de Micro-NanoFabrication - CMNF H/F
Référence : UMR8520-FRELEF-186
Nombre de Postes : 1
Lieu de travail : VILLENEUVE D ASCQ
Date de publication : mardi 15 juillet 2025
Type de contrat : IT en contrat CDD
Durée du contrat : 15 mois
Date d'embauche prévue : 1 septembre 2025
Quotité de travail : Complet
Rémunération : A partir de 3175 euros bruts mensuels
Niveau d'études souhaité : BAC+5
Expérience souhaitée : Indifférent
BAP : B - Sciences chimiques et Sciences des matériaux
Emploi type : Ingenieure ou ingenieur de recherche en science des materiaux / elaboration


Missions

L'installation du nouvel équipement de lithographie électronique EBPG5200Plus, développé par la société Raith, est prévue pour fin 2025. Dans ce cadre, l'ingénieur de recherche recruté sera chargé de l'implantation et de la mise en service de cet équipement au sein du pôle lithographie de l'IEMN.


Activités

Les missions de cet ingénieur incluront :
- La supervision de l'installation du système actif de compensation des vibrations mécaniques, fourni par la société Stacis.
- L'installation du nouveau masqueur à l'IEMN.
- L'acceptation et la vérification du bon fonctionnement de l'équipement de lithographie électronique à l'IEMN.
- La prise en main de l'équipement.
- La formation des nouveaux utilisateurs.
- Le développement de nouveaux procédés.


Compétences

Savoirs / connaissances
- Procédés de lithographie (résines, machines)
- Connaissance de la technologie des composants
- Connaissance du système linux
- Anglais (niveau B1 minimum)
Savoir-faire
- Gestion d'un parc d'équipements
- Maîtrise des opérations de micro et nano fabrication en lithographie
- Logiciels nécessaires à l’utilisation des écritures e-beam : BEAMER, TRACER, Beams, Layout Editor,…
- Maîtrise des techniques d'observation et de mesures (réflectométrie, profilométrie, MEB,…)
- Connaissance des techniques du vide (vide primaire, vide secondaire)
Savoirs-être
- Aptitude au travail en équipe et objectifs multi-projets
- Autonomie, prise d'initiative
- Réactivité
- Aisance relationnelle

Compétences d’encadrement ou d’animation
- Maîtrise des techniques d’encadrement (entretiens, délégation, etc…)
- Capacité de dialogue, d’écoute et de pédagogie
- Capacité à animer le collectif de travail


Contexte de travail

L'Institut d'Electronique, Microélectronique et de Nanotechnologies (IEMN UMR8520) est un acteur majeur au niveau National et International de la recherche en Ingénierie des Matériaux Microélectronique, Radiofréquences, Composants, Capteurs, Acoustique et Technologies pour le vivant. Regroupant 9 sites dont le Laboratoire Central situé sur le campus de l’Université de Lille à Villeneuve d’Ascq, l'IEMN regroupe plus de 500 personnes dont une moitié de Chercheurs, Enseignants-Chercheurs et personnels de soutien à la recherche d'une vingtaine de nationalités. L'IEMN s'appuie sur deux plateformes technologiques de rang international labellisées appartenant aux réseaux RENATECH et RF-Net respectivement. La Centrale de Micro-NanoFabrication (CMNF) et la Plateforme de Caractérisation Multi-Physique (PCMP) permettent de couvrir l'ensemble de la chaîne de recherche du substrat au prototype. L'IEMN accueille également 6 start-ups.

Dans le cadre d'un projet FEDER dédié au renforcement des équipements et des compétences de ses plateformes, l'IEMN recrute 9 Ingénieurs de Recherche, Ingénieurs d'Etude et Assistants Ingénieurs dans différents métiers allant des procédés de microfabrication à la caractérisation hyperfréquence pour une durée de 15 mois.

Le poste se situe dans un secteur relevant de la protection du potentiel scientifique et technique (PPST), et nécessite donc, conformément à la réglementation, que votre arrivée soit autorisée par l'autorité compétente du MESR.

#J-18808-Ljbffr