Description de l'offre
L’objectif des travaux est de mieux appréhender ces nouveaux procédés, en effectuant dans un premier temps une étude rhéologique des matériaux proposés, comme le chitosan ou les alginates. Ensuite, l’impact de ces caractérisations sera à évaluer sur le procédé complet de lithographie. Ces travaux R&D se dérouleront dans la salle blanche 300 mm du CEA-Leti, sur les équipements de la ligne pilote. Les résultats nourriront des projets visant à développer une électronique plus durable.
Le stage se déroulera au sein du laboratoire de lithographie (LLIT) du service patterning (SPAT) dans un cadre de travail dynamique, multidisciplinaire et international.
Moyens / Méthodes / Logiciels
Salle blanche du CEA Leti
Profil du candidat
- Diplôme de master ou d’école d’ingénieurs en physique, matériaux, nanosciences ou électronique en cours de préparation (M1 ou BAC +4)
- Sens de l’analyse critique et curiosité pour la science des semi-conducteurs
- Rigueur, persévérance, adaptabilité, sens d’équipe
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