Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.
Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.
Implanté au coeur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.
Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :
- La conscience des responsabilités
- La coopération
- La curiosité Au sein du LETI, nous sommes une équipe pluridisciplinaire d'une quinzaine de personnes spécialisées dans la préparation des données destinées aux dessins sur les masques optiques pour la lithographie, ainsi que sur la métrologie et les logiciels associés. Notre méthode de travail collaborative et agile nous permet de partager nos connaissances et savoir-faire afin de les développer puis de les valoriser dans des innovations technologiques rapidement transférables à nos partenaires.
Nous rejoindre, pour quoi faire ?
Nous vous invitons à participer au défi que nous avons lancé : miniaturiser encore et encore pour augmenter les performances de nos semi-conducteurs tout en réduisant leur consommation d'énergie.
Cela implique pour nous d'innover dans l'élaboration et la mise en place des OPC (Optical Proximity Correction) car plus la résolution des masques est fine, plus les méthodes et outils d'OPC doivent être précis.
Et c'est là que vous intervenez : en lien étroit avec les équipes process et avec les équipes projets, à l'aide d'outils du commerce et d'autres développés en interne, en vous basant sur des données expérimentales, vous concevez et optimisez les dessins sur les masques optiques.
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