Assistant-e ingénieu-e en élaboration de matériaux en couches minces h/f

Informations générales

Réservé aux agents CNRS (fonctionnaires et CDI) et aux fonctionnaires et CDI de droit public
Intitulé de l'offre : Assistant-e ingénieu-e en élaboration de matériaux en couches minces H/F
Référence : UMR9001-MOBINT-O56008
Lieu de travail : PALAISEAU
Institut : INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
Date de publication : mercredi 30 avril 2025
Session : Campagne Printemps 2025
Groupe de Fonction : AIG2
BAP : B - Sciences chimiques et Sciences des matériaux
Emploi type : Assistant-e ingénieu-e en élaboration de matériaux en couches minces

Missions

L'Assistant(e) ingénieur(e) en élaboration de matériaux en couches minces participera au développement et à la caractérisation des procédés de gravure sèche.
Il/elle aura également à charge la gestion des équipements dédiés à la gravure sèche, dont il/elle aura la responsabilité (formation, maintenance, suivi des procédés et calibration).


Activités


Assurer la maintenance de 1er niveau des équipements sous sa responsabilité et contribuer au bon fonctionnement de la ressource gravure sèche.
- Gérer, assurer la maintenance de premier niveau et les relations avec les équipementiers (sur les équipements dont il/elle aura la responsabilité).
- Effectuer des opérations courantes d'entretien et de maintenance des équipements (nettoyage des réacteurs de gravure)
- Assurer la formation et l'aide aux utilisateurs.
- Rédiger des rapports techniques et comptes rendus d'expériences.
- Appliquer et faire appliquer les règles d'hygiène et de sécurité.
- Au-delà des équipements sous sa responsabilité, prendre en main les équipements de gravure plasma de la ressource avec une priorité sur les machines de gravures ioniques réactives à couplage capacitif (RIE CCP) et gravures ioniques réactives à couplage inductif (RIE ICP) permettant la gravure profonde du silicium (DRIE) en chimie fluorée.
- Assurer le développement de procédés de pointe en gravure plasma pour les besoins du laboratoire et des demandeurs externes selon les règles d'utilisation et d'accès fixées pour chaque équipement.
- Mettre en œuvre des moyens de caractérisation adaptés au développement de procédés (Microscopie Electronique à Balayage, microscopie optique, profilomé.
- Veiller à l'alimentation des outils web (cahier numérique, interface de réservation) et bases de données de suivi des équipements sous sa responsabilité.
- Assurer une veille technologique (notamment sur le suivi des évolutions techniques et scientifiques en gravure sèche).
- Diffuser les informations sur les avancées technologiques et matérielles.
- Participer aux projets transversaux de recherche en interaction avec les chercheurs ou les collaborateurs extérieurs au laboratoire.


Compétences

Savoirs :
- Connaissances générales en sciences des matériaux.
- Connaissances en techniques de gravure sèche.
- Connaissances en physique des plasmas froids.
- Connaissances des techniques de caractérisation des matériaux et des surfaces.
- Connaissances des techniques du vide et en maintenance d'équipements sous vide.
- Connaissances en gestion de gaz toxiques et non toxiques et des conditions en hygiène, sécurité et environnement liées à l'utilisation de ces gaz.
- Connaissances générales sur les procédés de micro et nano fabrication (lithographies, gravures, caractérisations)
- Expérience du travail en salle blanche.
- Anglais : Compréhension écrite et orale : A2. Expression écrite et orale : A2.
Savoir-faire :
- Maitriser des outils bureautiques courants (Word, Excel, PowerPoint).
- Savoir faire appliquer les règles d'hygiène et de sécurité.
- Utiliser les techniques de contrôle du domaine des couches minces.
Savoir-être :
- Esprit d'équipe / Sens du collectif et du service aux utilisateurs.
- Rigueur et fiabilité dans l'exécution des tâches.
- Réactivité, dynamisme et disponibilité.
- Capacité d'adaptation.
- Sens de l'organisation.


Contexte de travail



Le C2N, Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies est une unité mixte de recherche du CNRS, de l'Université Paris Saclay et de l'Université Paris Cité. Le laboratoire est constitué d'environ 400 personnes et est situé, sur le plateau de Saclay à Palaiseau. Les thématiques de recherche du C2N sont la photonique, la nanoélectronique, les microsystèmes, la nanobiofluidique et les matériaux.
L'Assistant(e) Ingénieur(e) sera affecté(e) dans la Plateforme d'Innovation en Micro Et NanoTechnologies (PIMENT) du C2N, constituée d'une équipe technique de 26 Ingénieurs(res) et Techniciens(nnes).

La plateforme PIMENT a pour mission principale le développement, l'exploitation et l'assistance aux besoins de réalisations en micro- nano- fabrication des objets d'études de l'unité et plus largement de la communauté scientifique et industrielle, via notamment le réseau national des Grandes Centrales de Technologie RENATECH. Elle est organisée en 10 ressources technologiques regroupant les techniques de lithographies optiques de nanolithographie et de lithographie alternative, les dépôts métalliques et dépôts diélectriques et traitements thermiques, la gravure sèche et la gravure chimique et l'électrochimie, la caractérisation par microscopie électronique et champs proche, la caractérisation physico-chimique et le backend.

L'Assistant(e) Ingénieur(e) viendra renforcer la ressource gravure sèche et évoluera sous la responsabilité fonctionnelle du/de la coordinateur-trice de la ressource et sous la responsabilité hiérarchique de la direction technique de la plateforme. Au-delà de son activité au sein de la plateforme, il/elle prendra part à des projets transversaux de l'Unité dans son cœur de métier.