Topic description
L’objectif principal des travaux de thèse est de développer des couches conductrices par la technique ALD (Atomic Layer Deposition) à très faible épaisseur ( ). L’autre challenge vise à réduire l’épaisseur des couches à moins de 5nm tout en préservant les propriétés électriques très avancées (résistivité de quelques mOhm). Le travail de thèse comporte plusieurs aspects incluant le procédé et les précurseurs ALD, la caractérisation des couches intrinsèques (physico-chimiques, électrochimique et morphologique) ainsi que l’intégration en dispositif 3D.
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This work aims to develop Advanced ultrathin cunductive layers ( ). The other challenge aims to reduce the ALD-based electrode layer thickness less than 5nm while still maintaining the advanced electric properties (resistivity in the mOhm range).
This work covers multiple aspects including inter alia ALD process, ALD precursors, Elementary characterization of intrinsec properties (physico-chemical, morphological and electrochemical) as well as integration on short loop 3D devices.
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Pôle fr : Direction de la Recherche Technologique
Pôle en : Technological Research
Département : Département des Plateformes Technologiques (LETI)
Service : Service des procédés de Dépôts
Laboratoire : Laboratoire
Date de début souhaitée : 01-10-
Ecole doctorale : Sciences Chimiques Balard (EDSCB)
Directeur de thèse : BECHELANY Michael
Organisme : CNRS
Laboratoire : Institut Européen des Membranes (IEMM, ENSCM UM CNRS UMR)
URL :
Funding category
Public/private mixed funding
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