H/f chercheur en procédés plasma pour le dépot de couches minces

Vos missions en quelques mots Missions : Mener et soutenir des activités de recherche dans le cadre du projet « PEPR TASE IOTA », portant sur de nouvelles architectures et procédés photovoltaïques tandem. Les activités incluent aussi de guider et suivre les échanges avec les autres partenaires du projet. Activités : Fabriquer de dispositifs photovoltaïques à hétérojonction de silicium à l'aide d'équipements sous vide (notamment PECVD, mais aussi évaporation et pulvérisation cathodique). Modifier des procédés existants afin de les rendre compatibles avec d'autres structures et concepts issus d'autres laboratoires de recherche. Caractériser des surfaces, des couches minces et des dispositifs PV. Contexte de travail : Le poste est à pourvoir au laboratoire LPICM du CNRS, situé sur le campus de l'École Polytechnique. Le candidat travaillera au sein d'une équipe de 6 chercheurs et ingénieurs spécialisés dans les procédés plasma pour les dispositifs optoélectroniques. Les travaux s'inscrivent dans le cadre du projet PEPR TASE IOTA, un projet de recherche académique collaboratif explorant de nouvelles structures tandem pour les dispositifs photovoltaïques. Ce poste implique des recherches expérimentales en laboratoire de procédés, utilisant des équipements de vide et de manipulation de gaz. Le travail comprendra des interactions avec les partenaires du projet afin de développer des procédés compatibles avec leurs techniques de dépôt et de texturation des wafers. Profil recherché Competences : Maitrise de l'utilisation d'équipements sous vide, en particulier PECVD ; connaissance des techniques de nettoyage des wafers; maitrise de la caractérisation des couches minces et des dispositifs semi-conducteurs. Contraintes et risques : L'utilisation de gaz pour le PECVD comporte un niveau de risque qui nécessite des procédures de sécurité rigoureuses et des équipements de détection de gaz. LPICM possède plus de 30 ans d'expérience dans ce domaine et assure un environnement de travail très sécurisé. Niveau d'études minimum requis Niveau Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents Spécialisation Formations générales Langues Français Seuil