Cdd chercheur en lithographie avancée par stencil (h/f)

Vos missions en quelques mots Missions : Les nanomatériaux ouvrent la voie à de nombreuses applications, notamment en nanoélectronique. Toutefois, leur manipulation et leur intégration dans des dispositifs reste délicate. Les procédés classiques d’intégration par lithographie optique et/ou électronique peuvent induire des résidus de polymère qui sont dommageables à leurs propriétés. Il convient de mettre en œuvre des procédés de nettoyage poussés ou d’encapsulation (notamment par du hBN) pour limiter leur dégradation induite par la microfabrication. Nous proposons de développer un procédé de fabrication de dispositifs à base de nanomatériaux par voie sèche ou par voie aqueuse. L’objectif est ici d’optimiser le procédé en utilisant un stencil mask pour réaliser les électrodes. Nous avons commencé à tester d’autres polymères que des résines, ce travail vise à tester les performances de polymères non conventionnels. Il conviendra de valider d’une part la résolution limite atteinte pour les dispositifs ainsi que leurs caractéristiques optiques et électroniques, et d’autre part de mettre au point un nouveau système d’alignement permettant la mise en œuvre des masques de 2 pouces. Ce projet est très orienté vers la valorisation. Le candidat sera en charge de la mise en œuvre du procédé en salle blanche, de son optimisation notamment en termes de résolution. La majeure partie de son activité se déroulera en salle blanche pour effectuer les étapes de fabrication des stencils, de lithographie laser et électronique, de dépôt et gravure plasma. Il développera un aligneur dédié en lien avec le pôle ExpE et analysera quantitativement les performances du procédé. Il participera activement aux discussions d’orientation du projet, avec les collaborateurs extérieurs. Activités : • Proposer, tester et caractériser de nouveaux protocoles • Définir et mettre en place un aligneur dédié • Participer aux discussions avec les collaborateurs extérieurs • Interagir avec les agents techniques du laboratoire • Réaliser la veille technologique. Contexte de travail : L'Institut NÉEL est une Unité propre de recherche du CNRS (UPR2940) conventionnée avec l'Université Grenoble Alpes. Le laboratoire est rattaché au CNRS Physique. Il est situé à Grenoble, au cœur d'un environnement scientifique, industriel et culturel unique. C'est l'un des plus grands instituts de recherche français pour la recherche fondamentale en matière condensée, enrichi par des activités interdisciplinaires à l'interface de la chimie, ingénierie et biologie. Il emploie 450 personnes dont 175 chercheurs. Le CNRS est un établissement public à caractère scientifique et technologique. Il a pour mission d’identifier, d’effectuer ou de faire effectuer, seul ou avec ses partenaires, toutes recherches présentant un intérêt pour l’avancement de la science ainsi que pour le progrès économique, social et culturel. Internationalement reconnu pour l’excellence de ses travaux scientifique Voir plus sur le site emploi.cnrs.fr Profil recherché Competences : • Connaissance approfondie des techniques de salle blanche : lithographie électronique, lithographie laser et techniques associées • Connaissance approfondie des techniques de traitement de surface : gravure ICP, plasma, chimique • Connaissance des matériaux 2D et de leur intégration en hétérostructures de van der Waals • Maîtrise de la physico-chimie des matériaux, notamment polymères • Compétences en microscopies optique, AFM, MEB • Être à l’aise avec le travail multi-tâches • Large culture technologique • Volonté de s’orienter vers le monde industriel Contraintes et risques : Travail en salle blanche Niveau d'études minimum requis Niveau Niveau 8 Doctorat/diplômes équivalents Spécialisation Formations générales Langues Français Seuil