Description de l'offre
Les dispositifs microélectroniques à haute densité de circuits sont très demandés et font l'objet de nombreuses recherches et développements dans l'industrie. L’un des moyens d'obtenir une densité de circuits plus élevée consiste à réduire la dimension ou le pas des motifs. Cependant, à mesure que la dimension des motifs diminue, les défis liés à la fabrication augmentent. Des techniques d'amélioration de la résolution (RET), telles que la correction des effets de proximité optique (OPC), doivent donc être utilisées pour générer les masques.
La correction de proximité optique (OPC) vise à améliorer la fidélité des motifs sur wafer en compensant les erreurs dues aux effets optiques ou de procédés pendant les étapes de fabrication. Pour mettre en œuvre cette correction, un modèle de lithographie est nécessaire. Elle comprend un modèle optique du système d'exposition et un modèle de résine photosensible.
Ces modèles sont calibrés à l'aide d’un très grand volume de données expérimentales, qui comprennent des mesures CD-SEM et des contours extraits d'images SEM. L'acquisition des données et le post-traitement des images constituent un goulot d'étranglement dans le flux de calibration des modèles, consommant énormément de temps et de ressources.
Ce stage vise à optimiser la calibration des modèles de lithographie, en étudiant l'impact des données d'entrée sur la qualité des modèles obtenus.
Vous travaillerez avec un logiciel de lithographie computationnelle en étroite collaboration avec l'équipe de patterning computationnelle.
La Direction de la Recherche Technologique, qui sommes-nous ?
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Avec sa Direction de la Recherche Technologique (DRT), le CEA agit comme un accélérateur d'innovation au service de l'industrie pour tous les secteurs d'activités, répondant ainsi aux enjeux liés à notre santé, notre sécurité, nos technologies d'information, notre avenir énergétique.
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Profil du candidat
Qu’attendons-nous de vous ?
Vous préparez un diplôme de niveau Bac + 5 dans le domaine de la microélectronique et de la physique.
Vous êtes intéressé par la modélisation, êtes force de proposition et rigoureux.
Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !
Vous avez encore un doute ? Nous vous proposons :
1. Un environnement unique de recherché dédié à des projets ambitieux au profit des grands enjeux sociétaux actuels.
2. Une expérience à la pointe de l’innovation, comportant un fort potentiel de développement industriel,
3. Des moyens expérimentaux exceptionnels et un encadrement de qualité,
4. De réelles opportunités de carrière à l’issue de votre stage
5. Un poste au cœur de la métropole grenobloise, facilement accessible via la mobilité douce favorisée par le CEA,
6. Un équilibre vie privée – vie professionnelle reconnu,
7. Une épargne entreprise abondée par le CEA,
8. Une politique diversité et inclusion,
9. Un CSE actif en termes de loisirs et d’activités extra-professionnelles.
Conformément aux engagements pris par le CEA en faveur de l'intégration des personnes handicapées, cet emploi est ouvert à toutes et à tous. Le CEA propose des aménagements et/ou des possibilités d'organisation pour l'inclusion des travailleurs handicapés.
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